株式会社 アルバック

 

株式会社 アルバック

 

募集職種詳細

技術系

(静岡)研究開発(ケミカル装置・プロセス開発)

職務内容 ■研究開発(ケミカル装置・プロセス開発)

【具体的には】
・半導体製造装置の前処理・CVD・ALD
 (化学的気相成長反応を用いた薄膜形成方法)
 装置およびプロセス開発

・(自然酸化膜除去用)ガスエッチング装置とプロセス開発業務

これらの装置・プロセス開発における課題現象を
化学的知見・経験に基づき原因究明・解決し、
ハードウェアの設計指針を決定し、事業部に移管する業務

事業部および海外研究所メンバーと密に連携・情報共有し
開発リードタイム短縮を実現する。
必要に応じて顧客との技術ディスカッションを行う。
 
応募資格 ■必須要件
 ・大学レベルの物理・化学の基礎知識
 
■歓迎要件
 ・真空装置(CVD,ALD)の取り扱い経験
 ・英語 TOEIC 600点以上
 ・真空装置メーカーもしくは装置を取り扱った経験が
  ある方
 ・国際学会での発表、論文投稿経験がある方
 ・海外出張可能な方

■資格
 ・運転免許(通勤のため)
 
【選考フロー】 面接…2回(通常)
  書類選考
   ↓
  1次面接
   ↓
  最終面接(2次または3次面接まで)
   ↓
  役員会にて採用決裁
   ↓
  正式内定

※1次面接前までに適性検査をWebにて受検いただきます 
待遇 ■雇用形態:正社員

■給与形態:月給制

■年収:450万円 〜 800万円(年齢、経験、能力を考慮し決定)

■昇給:年1回(7月)

■賞与:年2回(3月、9月)今年度実績5.25ヶ月

■諸手当:時間外手当、通勤手当

■福利厚生:社員食堂、昼食補助、独身寮(社内規定あり)、
      退職金制度、財形貯蓄制度、各種契約施設利用制度、
      車通勤可

■勤務時間:08:30 〜 17:05(昼休み12:00 〜 12:50)※時差出勤制あり

■所定労働時間:7時間45分

■各種保険:健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金

■年間休日:126日/完全週休2日制

■休日:土日(ただし、企業カレンダーにより年に2回程度の土曜出勤あり)

■休暇:祝日、GW、年末年始、慶弔、年次有給、他
    (年次有給休暇は入社日から付与します)

 
勤務地 ■静岡県 富士裾野事業所

■所在地:静岡県裾野市須山1220-1

■交通:JR御殿場線「岩波駅」
  ※車通勤可。無料駐車場あり